南亞科增加年度資本支出65.6億元,用以建置10奈米級製程試產線

新聞媒體 2020-05-08


根據記憶體大廠南亞科的最新重大訊息公告指出,南亞科董事會於 6 日決議,將追加新台幣 65.6 億元的資本支出預算,用以打造 10 奈米級製程產線。先前南亞科的董事會決議,在年度資本支出的部分,南亞科 2020 年度資本支出預算以不超過新台幣 92 億元為上限,其中包含 10 奈米級製程研發、試產及 20 奈米遞延等資本支出等。如今再加入新的資本支出預算,預計 2020 年度的資本支出預算交以不超過 157.6 億元為上限。

事實上,南亞科總經理李培瑛在上一季法說會上就已經宣布,南亞科已完成自主研發 10 奈米級 DRAM 生產技術,並且將在 2020 年下半年試產。而南亞科新成功開發出的 10 奈米級 DRAM 生產技術,預計將使 DRAM 產品可持續微縮至少 3 個時代。而第一代的 10 奈米級產品包括 8GB DDR4、LPDDR4 及 DDR5 將建構在自主製程技術及產品技術平台上,並預計 2020 下半年進入產品試產階段。

至於,第二代 10 奈米級製程技術已開始進入研發階段,預計 2022 年前導入試產,之後將會再開發第三代的 10 奈米製程技術。李培瑛強調,南亞科進入 10 奈米級製程之後,會以自行研發的技術為主,降低授權費用支出,以大幅提升效能。

目前以全球 DRAM 記憶體市場來說,其主要生產技術掌握在南韓三星、SK海 力士以及美商美光等 3 家企業的手中,而且 3 家廠商的合計市場占有率高達 95% 以上,其關鍵原因就在於 3 家企業的技術專利形成了極高的門檻,使其他公司不容易有機會進入市場。

而當前南亞科現在以 20 奈米級的技術為主力,技術來源為過去的合作夥伴美光,而且每年也支付美光相關技術授權費用。而隨著南亞科導入自主的 10 奈米級製程技術之後,則未來將不再大幅度仰賴美光授權,使得高昂授權費支付的情況也可以減少,有利於南亞科往後的營運發展。

(首圖來源:科技新報攝)


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